Facile, wafer-scale compatible growth of ZnO nanowires via chemical bath deposition: assessment of zinc ion contribution and other limiting factors - Université de technologie de Troyes Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Nanoscale Advances Année : 2020

Facile, wafer-scale compatible growth of ZnO nanowires via chemical bath deposition: assessment of zinc ion contribution and other limiting factors

Domaines

Optique / photonique Micro et nanotechnologies/Microélectronique Matériaux Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci]

GILLES LERONDEL  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://utt.hal.science/hal-03158377

Soumis le : mercredi 3 mars 2021-18:11:14

Dernière modification le : vendredi 12 janvier 2024-16:47:45

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Dates et versions

hal-03158377 , version 1 (03-03-2021)

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Citer

Yu-Chen Huang, Junze Zhou, Komla Nomenyo, Rodica Elena Ionescu, Anisha Gokarna, et al.. Facile, wafer-scale compatible growth of ZnO nanowires via chemical bath deposition: assessment of zinc ion contribution and other limiting factors. Nanoscale Advances, 2020, 2 (11), pp.5288-5295. ⟨10.1039/d0na00434k⟩. ⟨hal-03158377⟩

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