Method of nanostructuring a film or a wafer of material of the metal oxide or semiconductor type - Université de technologie de Troyes Accéder directement au contenu
Brevet Année : 2012

Method of nanostructuring a film or a wafer of material of the metal oxide or semiconductor type

Gilles Lerondel
Laboratoire de Nanotechnologie et d'Instrumentation Optique
CV
Laurent Divay
  • Fonction : Auteur

Domaines

Optique / photonique

Jean-Baptiste VU VAN  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://utt.hal.science/hal-03141931

Soumis le : lundi 15 février 2021-16:05:10

Dernière modification le : vendredi 12 janvier 2024-16:48:48

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-03141931 , version 1 (15-02-2021)

Identifiants

  • HAL Id : hal-03141931 , version 1

Citer

Gilles Lerondel, Laurent Divay. Method of nanostructuring a film or a wafer of material of the metal oxide or semiconductor type. China, Patent n° : CN102428215 (A). 2012. ⟨hal-03141931⟩

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