Procédé de fabrication d'une couche mince de nanoreliefs de silicium ordonnés - Université de technologie de Troyes Accéder directement au contenu
Brevet Année : 2015

METHOD FOR MANUFACTURING A THIN FILM OF ORDERED SILICON NANOPATTERNS

Procédé de fabrication d'une couche mince de nanoreliefs de silicium ordonnés

David Grosso
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 977521
Laboratoire de Chimie de la Matière Condensée de Paris
Cedric Boissiere
Matériaux Hybrides et Nanomatériaux
Gilles Lerondel
Laboratoire de Nanotechnologie et d'Instrumentation Optique
CV

Domaines

Optique / photonique

GILLES LERONDEL  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://utt.hal.science/hal-03141429

Soumis le : lundi 15 février 2021-11:52:19

Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:14

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-03141429 , version 1 (15-02-2021)

Identifiants

  • HAL Id : hal-03141429 , version 1

Citer

David Grosso, Cedric Boissiere, Gilles Lerondel. Procédé de fabrication d'une couche mince de nanoreliefs de silicium ordonnés. France, N° de brevet: FR2993701 (B1). 2015. ⟨hal-03141429⟩

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