METHOD FOR MANUFACTURING A THIN FILM OF ORDERED SILICON NANOPATTERNS - Archive ouverte HAL Access content directly
Patents Year : 2015

METHOD FOR MANUFACTURING A THIN FILM OF ORDERED SILICON NANOPATTERNS

Procédé de fabrication d'une couche mince de nanoreliefs de silicium ordonnés

(1) , (2) , (3)
1
2
3
David Grosso
  • Function : Author
  • PersonId : 977521
Laboratoire de Chimie de la Matière Condensée de Paris
Cedric Boissiere
Matériaux Hybrides et Nanomatériaux
Gilles Lerondel
Laboratoire de Nanotechnologie et d'Instrumentation Optique
CV

Domains

Engineering Sciences [physics] Optics / Photonic

GILLES LERONDEL  : Connect in order to contact the contributor

https://hal-utt.archives-ouvertes.fr/hal-03141429

Submitted on : Monday, February 15, 2021-11:52:19 AM

Last modification on : Thursday, November 10, 2022-4:37:39 AM

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Dates and versions

hal-03141429 , version 1 (15-02-2021)

Identifiers

  • HAL Id : hal-03141429 , version 1

Cite

David Grosso, Cedric Boissiere, Gilles Lerondel. Procédé de fabrication d'une couche mince de nanoreliefs de silicium ordonnés. France, N° de brevet: FR2993701 (B1). 2015. ⟨hal-03141429⟩

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