Effects of oxygen flow rate on the properties of ZnO thin films prepared by DC reactive magnetron sputtering - Université de technologie de Troyes Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2016

Effects of oxygen flow rate on the properties of ZnO thin films prepared by DC reactive magnetron sputtering

Fazia Bouaraba
  • Fonction : Auteur
Salim Lamri
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 905280
Laboratoire des Systèmes Mécaniques et d'Ingénierie Simultanée
Nora Ziani
  • Fonction : Auteur
Mohammed Said Belkaid
  • Fonction : Auteur

Domaines

Sciences de l'ingénieur [physics]

Jean-Baptiste VU VAN  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://utt.hal.science/hal-02956329

Soumis le : vendredi 2 octobre 2020-16:15:44

Dernière modification le : vendredi 12 janvier 2024-16:45:21

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02956329 , version 1 (02-10-2020)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02956329 , version 1

Citer

Fazia Bouaraba, Salim Lamri, Nora Ziani, Mohammed Said Belkaid. Effects of oxygen flow rate on the properties of ZnO thin films prepared by DC reactive magnetron sputtering. International Conference on Fracture Mechanics "FRACT'3", Nov 2016, Chlef, Algeria. ⟨hal-02956329⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

CNRS UTT
15 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More