Electrical and Structural properties of Cu2O thin films deposited at different temperatures by magnetron sputtering - Université de technologie de Troyes Accéder directement au contenu
Poster De Conférence Année : 2016

Electrical and Structural properties of Cu2O thin films deposited at different temperatures by magnetron sputtering

Lamia Radjehi
  • Fonction : Auteur
Universite Abbes Laghrour [Khenchela]
Salim Lamri
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 905280
Laboratoire LERMPS
Abdelkader Djelloul
  • Fonction : Auteur
Frédéric Sanchette
Laboratoire des Systèmes Mécaniques et d'Ingénierie Simultanée

Domaines

Sciences de l'ingénieur [physics]

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https://utt.hal.science/hal-02870949

Soumis le : mercredi 17 juin 2020-07:43:19

Dernière modification le : vendredi 12 janvier 2024-16:45:42

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02870949 , version 1 (17-06-2020)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02870949 , version 1

Citer

Lamia Radjehi, Salim Lamri, Abdelkader Djelloul, Frédéric Sanchette. Electrical and Structural properties of Cu2O thin films deposited at different temperatures by magnetron sputtering. 15th International Conference on Plasma Surface Engineering, Sep 2016, Garmisch-Partenkirchen, Germany. ⟨hal-02870949⟩

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