Large scale sub-100 nm 2D nanostructuring obtained by nanosphere lithography combined with metal evaporation and reactive ion etching - Université de technologie de Troyes Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2015

Large scale sub-100 nm 2D nanostructuring obtained by nanosphere lithography combined with metal evaporation and reactive ion etching

Hind Kadiri
  • Fonction : Auteur
Laboratoire de Nanotechnologie et d'Instrumentation Optique
Marco Faustini
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 983664
Matériaux Hybrides et Nanomatériaux
Daniel Turover
  • Fonction : Auteur
SILSEF SAS
David Grosso
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 977521
Matériaux Hybrides et Nanomatériaux
Gilles Lerondel
Laboratoire de Nanotechnologie et d'Instrumentation Optique
CV

Domaines

Optique / photonique

Jean-Baptiste VU VAN  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://utt.hal.science/hal-02866321

Soumis le : vendredi 12 juin 2020-13:32:47

Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:15

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02866321 , version 1 (12-06-2020)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02866321 , version 1

Citer

Hind Kadiri, Marco Faustini, Daniel Turover, David Grosso, Gilles Lerondel. Large scale sub-100 nm 2D nanostructuring obtained by nanosphere lithography combined with metal evaporation and reactive ion etching. JNTE215 4èmes Journées Nationales sur les Technologies Emergentes en micro-nanofabrication, Nov 2015, Ecully, France. ⟨hal-02866321⟩

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