Advanced large scale colloidal lithography for sub-100 nm direct and indirect structuring: application to silicon and metals - Université de technologie de Troyes Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2015

Advanced large scale colloidal lithography for sub-100 nm direct and indirect structuring: application to silicon and metals

Domaines

Optique / photonique

Jean-Baptiste VU VAN  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://utt.hal.science/hal-02866188

Soumis le : vendredi 12 juin 2020-12:20:44

Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:15

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02866188 , version 1 (12-06-2020)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02866188 , version 1

Citer

Hind Kadiri, Marco Faustini, Daniel Turover, David Grosso, Anisha Gokarna, et al.. Advanced large scale colloidal lithography for sub-100 nm direct and indirect structuring: application to silicon and metals. Tech connect World Innovation Conference & Expo, Jun 2015, Washington, United States. ⟨hal-02866188⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

UPMC CNRS CDF LCMCP INC-CNRS LCMCP-MHN PSL SORBONNE-UNIVERSITE SU-SCIENCES UTT CHIMIE-SU
16 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More