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Patents

Procédé de fabrication d'une couche mince de nanoreliefs de silicium ordonnés

Document type :
Patents
Complete list of metadatas

https://hal-utt.archives-ouvertes.fr/hal-02866019
Contributor : Jean-Baptiste Vu Van <>
Submitted on : Friday, June 12, 2020 - 11:05:07 AM
Last modification on : Wednesday, September 23, 2020 - 4:31:58 AM

Identifiers

  • HAL Id : hal-02866019, version 1

Citation

David Grosso, Cedric Boissiere, Gilles Lerondel. Procédé de fabrication d'une couche mince de nanoreliefs de silicium ordonnés. France, Patent n° : FR2993701. 2014. ⟨hal-02866019⟩

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