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Patents
Procédé de fabrication d'une couche mince de nanoreliefs de silicium ordonnés
David Grosso
1
Cedric Boissiere
2
Gilles Lerondel
3
2
MHN - Matériaux Hybrides et Nanomatériaux
LCMCP - Laboratoire de Chimie de la Matière Condensée de Paris
3
LNIO - Laboratoire de Nanotechnologie et d'Instrumentation Optique
ICD - Institut Charles Delaunay
David Grosso 1
Author
Cedric Boissiere 2
Author IdHAL : cedric-boissiere ORCID : https://orcid.org/0000-0003-1212-6850
Gilles Lerondel 3
Author IdHAL : gilles-lerondel
1
LCMCP - Laboratoire de Chimie de la Matière Condensée de Paris (11 place Marcelin Berthelot 75231 Paris Cedex 05 - France)
- UPMC - Université Pierre et Marie Curie - Paris 6 (4 place Jussieu - 75005 Paris - France)
- CdF (institution) - Collège de France (France)
- CNRS - Centre National de la Recherche Scientifique : UMR7574 (France)
2
MHN - Matériaux Hybrides et Nanomatériaux (France)
- LCMCP - Laboratoire de Chimie de la Matière Condensée de Paris (11 place Marcelin Berthelot 75231 Paris Cedex 05 - France)
- UPMC - Université Pierre et Marie Curie - Paris 6 (4 place Jussieu - 75005 Paris - France)
- CdF (institution) - Collège de France (France)
- CNRS - Centre National de la Recherche Scientifique : UMR7574 (France)
3
LNIO - Laboratoire de Nanotechnologie et d'Instrumentation Optique (12 rue Marie Curie - BP 2060 10010 TROYES CEDEX - France)
- ICD - Institut Charles Delaunay (12, rue Marie Curie BP 2060 - 10010 Troyes Cedex - France)
- UTT - Université de Technologie de Troyes (12 rue Marie Curie CS 42060 10004 TROYES CEDEX - France)
- CNRS - Centre National de la Recherche Scientifique : UMR6281 (France)
Document type :
Patents
Domain :
Complete list of metadatas
https://hal-utt.archives-ouvertes.fr/hal-02866019
Contributor : Jean-Baptiste Vu Van <>
Submitted on : Friday, June 12, 2020 - 11:05:07 AM
Last modification on : Wednesday, September 23, 2020 - 4:31:58 AM
Contributor : Jean-Baptiste Vu Van <>
Submitted on : Friday, June 12, 2020 - 11:05:07 AM
Last modification on : Wednesday, September 23, 2020 - 4:31:58 AM
Identifiers
- HAL Id : hal-02866019, version 1
Collections
Citation
David Grosso, Cedric Boissiere, Gilles Lerondel. Procédé de fabrication d'une couche mince de nanoreliefs de silicium ordonnés. France, Patent n° : FR2993701. 2014. ⟨hal-02866019⟩
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