Procédé de fabrication d'une couche mince de nanoreliefs de silicium ordonnés - Archive ouverte HAL Access content directly
Patents Year : 2012

Procédé de fabrication d'une couche mince de nanoreliefs de silicium ordonnés

(1) , (2) , (3)
1
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3
Not file

Dates and versions

hal-02866019 , version 1 (12-06-2020)

Identifiers

  • HAL Id : hal-02866019 , version 1

Cite

David Grosso, Cedric Boissiere, Gilles Lerondel. Procédé de fabrication d'une couche mince de nanoreliefs de silicium ordonnés. France, N° de brevet: FR2993701 (A1). 2012. ⟨hal-02866019⟩
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