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Patents

Procédé de fabrication d'une couche mince de nanoreliefs de silicium ordonnés

David Grosso 1 Cedric Boissiere 2 Gilles Lerondel 3 
1 LCMCP - Laboratoire de Chimie de la Matière Condensée de Paris
2 MHN - Matériaux Hybrides et Nanomatériaux
LCMCP - Laboratoire de Chimie de la Matière Condensée de Paris
3 LNIO - Laboratoire de Nanotechnologie et d'Instrumentation Optique
ICD - Institut Charles Delaunay
Document type :
Patents
Complete list of metadata
https://hal-utt.archives-ouvertes.fr/hal-02866019
Contributor : Jean-Baptiste VU VAN Connect in order to contact the contributor
Submitted on : Friday, June 12, 2020 - 11:05:07 AM
Last modification on : Sunday, June 26, 2022 - 4:46:26 AM

Identifiers

  • HAL Id : hal-02866019, version 1

Collections

UPMC | CNRS | CDF | LCMCP | INC-CNRS | LCMCP-MHN | PSL | SORBONNE-UNIVERSITE | SU-SCIENCES | UTT

Citation

David Grosso, Cedric Boissiere, Gilles Lerondel. Procédé de fabrication d'une couche mince de nanoreliefs de silicium ordonnés. France, N° de brevet: FR2993701 (A1). 2012. ⟨hal-02866019⟩

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