Method for integrating two-dimensional materials on a nanostructured substrate, suspended thin film of two-dimensional materials and uses there of - Université de technologie de Troyes Access content directly
Patents Year : 2019

VERFAHREN ZUR INTEGRATION VON ZWEIDIMENSIONALEN MATERIALIEN AUF EINEM NANOSTRUKTURIERTEN SUBSTRAT, SUSPENDIERTE DÜNNSCHICHT VON ZWEIDIMENSIONALEN MATERIALIEN UND VERWENDUNGEN DAVON

Method for integrating two-dimensional materials on a nanostructured substrate, suspended thin film of two-dimensional materials and uses there of

Procédé d'intégration de matériaux 2D sur un substrat nanostructuré, film mince suspendu de matériaux 2D et utilisation associées

Abstract

A method of integrating two-dimensional materials onto a nanostructured substrate, characterised in that it comprises the following steps: manufacturing the two-dimensional materials by means of a vapour deposition or an exfoliation method; and transferring the two-dimensional materials obtained in the previous step onto a synthesised nanostructured substrate that is selected such that a contact surface between the two-dimensional materials and the nanostructured substrate is minimised. The invention further relates to fully suspended thin films obtained by the above method, and to the use of the suspended thin films in various fields such as electronics, optoelectronics, photovoltaics, catalysis, ultrasensitive surfaces, integrated circuits etc.
L'invention concerne un procédé d'intégration des matériaux bidimensionnels sur un substrat nanostructuré caractérisé en ce qu'il comprend les étapes suivantes: fabriquer des matériaux bidimensionnels par une méthode de dépôt en phase vapeur ou par une méthode d'exfoliation; transférer lesdits matériaux bidimensionnels, obtenus à l'étape précédente, sur un substrat nanostructuré synthétisé, ledit substrat nanostructuré est choisi de tel sorte qu'une surface de contact entre lesdits matériaux bidimensionnels et ledit substrat nanostructuré soit minimisée. L'invention concerne en outre des films minces entièrement suspendus obtenus par le procédé ci-dessus ainsi que l'utilisation des films minces suspendus dans différents domaines comme l'électronique, optoélectronique, photovoltaïque, catalyse, des surfaces ultrasensibles et les circuits intégrés, etc.
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Dates and versions

hal-02866000 , version 1 (12-06-2020)

Identifiers

  • HAL Id : hal-02866000 , version 1

Cite

Gilles Lerondel, Hyun Jeong, Gokarna Anisha. Method for integrating two-dimensional materials on a nanostructured substrate, suspended thin film of two-dimensional materials and uses there of. Unknown Region, Patent n° : EP3551788 (A1). 2019. ⟨hal-02866000⟩

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CNRS UTT
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