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Conference papers

Lithographie interferentielle pour la realisation de couches minces meso et nanostructurees : avantages et limites

Document type :
Conference papers
Complete list of metadatas

https://hal-utt.archives-ouvertes.fr/hal-02526858
Contributor : Jean-Baptiste Vu Van <>
Submitted on : Tuesday, March 31, 2020 - 6:16:28 PM
Last modification on : Monday, April 6, 2020 - 2:44:06 PM

Identifiers

  • HAL Id : hal-02526858, version 1

Collections

Citation

Komla Nomenyo, Stefan Mcmurtry, Christophe Couteau, Gilles Lerondel. Lithographie interferentielle pour la realisation de couches minces meso et nanostructurees : avantages et limites. 12e Journées de la Matière Condensée, Aug 2010, Troyes, France. ⟨hal-02526858⟩

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