Komla Nomenyo, Stefan Mcmurtry, Christophe Couteau, Gilles Lerondel. Lithographie interferentielle pour la realisation de couches minces meso et nanostructurees : avantages et limites.
12e Journées de la Matière Condensée, Aug 2010, Troyes, France.
⟨hal-02526858⟩