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Conference papers

Lithographie interferentielle pour la realisation de couches minces meso et nanostructurees : avantages et limites

Komla Nomenyo 1 Stefan Mcmurtry 2 Christophe Couteau 1 Gilles Lerondel 1
1 LNIO - Laboratoire de Nanotechnologie et d'Instrumentation Optique
ICD - Institut Charles Delaunay
2 IJL - Institut Jean Lamour
Document type :
Conference papers
Complete list of metadata
https://hal-utt.archives-ouvertes.fr/hal-02526858
Contributor : Jean-Baptiste Vu Van Connect in order to contact the contributor
Submitted on : Tuesday, March 31, 2020 - 6:16:28 PM
Last modification on : Monday, December 13, 2021 - 1:52:05 PM

Identifiers

  • HAL Id : hal-02526858, version 1

Collections

UNIV-LORRAINE | INC-CNRS | IJL-UL | UTT | CNRS

Citation

Komla Nomenyo, Stefan Mcmurtry, Christophe Couteau, Gilles Lerondel. Lithographie interferentielle pour la realisation de couches minces meso et nanostructurees : avantages et limites. 12e Journées de la Matière Condensée, Aug 2010, Troyes, France. ⟨hal-02526858⟩

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