Lithographie interferentielle pour la realisation de couches minces meso et nanostructurees : avantages et limites - Université de technologie de Troyes Access content directly
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Lithographie interferentielle pour la realisation de couches minces meso et nanostructurees : avantages et limites

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Optics / Photonic

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Submitted on : Tuesday, March 31, 2020-6:16:28 PM

Last modification on : Friday, March 24, 2023-2:53:15 PM

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Dates and versions

hal-02526858 , version 1 (31-03-2020)

Identifiers

  • HAL Id : hal-02526858 , version 1

Cite

Komla Nomenyo, Stefan Mcmurtry, Christophe Couteau, Gilles Lerondel. Lithographie interferentielle pour la realisation de couches minces meso et nanostructurees : avantages et limites. 12e Journées de la Matière Condensée, Aug 2010, Troyes, France. ⟨hal-02526858⟩

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