Lithographie interferentielle pour la realisation de couches minces meso et nanostructurees : avantages et limites - Archive ouverte HAL Access content directly
Conference Papers Year :

Lithographie interferentielle pour la realisation de couches minces meso et nanostructurees : avantages et limites

(1) , (2) , (1) , (1)
1
2
Not file

Dates and versions

hal-02526858 , version 1 (31-03-2020)

Identifiers

  • HAL Id : hal-02526858 , version 1

Cite

Komla Nomenyo, Stefan Mcmurtry, Christophe Couteau, Gilles Lerondel. Lithographie interferentielle pour la realisation de couches minces meso et nanostructurees : avantages et limites. 12e Journées de la Matière Condensée, Aug 2010, Troyes, France. ⟨hal-02526858⟩
20 View
0 Download

Share

Gmail Facebook Twitter LinkedIn More