New photopolymer material based on PMMA for Near field nano-lithography - Université de technologie de Troyes Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2009
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02498919 , version 1 (04-03-2020)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02498919 , version 1

Citer

Safi Jradi, Carlo Vincienzo Genuino Dajac, Xinhua Zeng, Jerome Plain, Renaud Bachelot, et al.. New photopolymer material based on PMMA for Near field nano-lithography. Frontiers in Polymer Science, Jun 2009, Mayence, Germany. ⟨hal-02498919⟩

Collections

CNRS UTT
20 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More