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Conference papers

Optimisation de formulations à base d’époxydes pour la photopolymérisation cationique à deux photons appliquée à la nanolithographie à trois dimensions

Résumé : La structuration directe par laser basée sur la photopolymérisation à deux photons est une des techniques les plus prometteuses pour accéder à l’écriture en trois dimensions et réaliser de vrais matériaux micro et nanostructurés innovants, particulièrement intéressants pour la nanophotonique et pour les nanobiotechnologies. Cependant, l’obtention de structures nanométriques fontionnalisées avec de bonnes propriétés optiques et/ou physico-chimiques est limitée par les résines commerciales à cause de leur mauvaise tenue mécanique ainsi que l’insuffisance de leurs propriétés fonctionnelles. Pour palier ces inconvénients nous avons mis en œuvre des résines de type cationique qui se sont révélées réactives à la photopolymérisation à deux photons. Des systèmes de photo-amorceurs ont été combinés avec des monomères époxydes judicieusement choisis afin d’accéder à des propriétés mécaniques et fonctionnelles des nano-structures 3D améliorées. Différentes formulations à base de résines époxydes ont été réalisées, caractérisées d’un point de vue macroscopique afin de comprendre leur comportement en photopolymérisation à deux photons et ont été permis de réaliser des nanostructures 3D avec une bonne résolution positive. Les corrélations établies entre les caractéristiques déterminées à l’échelle macroscopique (viscosité, conversion, transition vitreuse) peuvent d’ailleurs être utilisées pour confirmer les choix des formulations et orienter les conditions de traitement.
Document type :
Conference papers
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https://hal-utt.archives-ouvertes.fr/hal-02498870
Contributor : Jean-Baptiste Vu Van <>
Submitted on : Wednesday, March 4, 2020 - 6:01:59 PM
Last modification on : Wednesday, April 1, 2020 - 1:18:09 PM

Identifiers

  • HAL Id : hal-02498870, version 1

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Citation

C. Kowandy, Safi Jradi, Guillaume Rannoux, Xavier Coqueret, Renaud Bachelot. Optimisation de formulations à base d’époxydes pour la photopolymérisation cationique à deux photons appliquée à la nanolithographie à trois dimensions. PolyRay 2013, Apr 2013, Rouen, France. ⟨hal-02498870⟩

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