Oxides films deposited by DC magnetron reactive sputtering - Université de technologie de Troyes Accéder directement au contenu
Poster De Conférence Année : 2018
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02486055 , version 1 (20-02-2020)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02486055 , version 1

Citer

Lamia Radjehi, Linda Aissani, M.S. Bouamerene, Mamoun Fellah. Oxides films deposited by DC magnetron reactive sputtering. 2nd international workshop on magnetic materials and nanomaterials, Oct 2018, Boumerdès, Algeria. ⟨hal-02486055⟩
29 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More