Highly efficient interfacing of silicon-on-insulator and localized surface plasmon waveguides - Université de technologie de Troyes Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2012

Highly efficient interfacing of silicon-on-insulator and localized surface plasmon waveguides

Résumé

Plasmonics implementation in optical circuits and interconnects requires interfacing with dielectric optical waveguides. We show here metallic nanoparticles chain mode excitation from SOI waveguide with a record distance lower than 600 nm at telecom wavelength.
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02360186 , version 1 (12-11-2019)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02360186 , version 1

Citer

Mickaël Février, Philippe Gogol, Abdelhanin Aassime, Robert Megy, Alexandre Bondi, et al.. Highly efficient interfacing of silicon-on-insulator and localized surface plasmon waveguides. OFC/NFOEC, Mar 2012, Los Angeles, United States. ⟨hal-02360186⟩
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